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정밀 설비와 전문 시공으로
안전한 산업환경을 만듭니다.

반도체설비부터 유틸리티 공사, 안전용품까지 체계적으로 제공합니다.

반도체설비 유틸리티 공사 산업설비 및 안전용품

반도체설비

반도체, 유틸리티, 산업설비 시공과 제품을 제공합니다.

반도체설비

Semiconductor Equipment System

가스공급장치 / 가스처리장치 / 가스정제장치 / 칠러 시스템

가스공급설비 시스템

Gas Supply Equipment System

System List

공급 장치 라인업

공급 장치 라인업 이미지
  • Gas Cabinet System
  • Bunddle System
  • VMB / VMP System
  • BSGS System

최적의 안전 규격과 고순도 가스 전송 기술이 집약된 장비 리스트입니다.

Overview

개요

소량 또는 대용량의 특수가스를 공급하는 장치로 가스 누출 시 감지할 수 있는 각종 안전장치의 설치 및 프로그램에 의한 automatic 운전을 통해 운영자의 조작 실수를 방지하여 안전하게 가스를 공급합니다.

Gas Cabinet
Gas Cabinet
VMP / VMB
VMP / VMB
BSGS System
BSGS System

시스템 사양

구분 상세 규격 및 사양
공급방식 자동공급(Auto Change System)
제어방식 PLC & TOUCH (전자동시스템)
공급용기 기본 47L, 특주 대응 가능(10L – 54L외)
공급유량 100SLPM(Max.Flow@N2) / Normal 30SLPM (대유량 대응 가능)
공급압력 0.1-0.9Mpa (2차 고압은 특주 대응 가능)

시스템 장점

  • 쉬운 운전 및 유지 보수 (편리한 터치 기능)
  • 자동화된 Purge 및 Process 기능
  • 알림 기능 및 알람 이력관리 기능
  • 오 조작 방지용 Inter-Lock 기능
  • 방폭위험지역 설치 가능(내압방폭인증/옵션)
  • No. of Particle : 0ft³@0.1㎛
  • Leakage rate : 1×10⁻⁹ atm CC/Sec이하, He leak Test @ KGS인증

가스처리설비 시스템

Gas Treatment Equipment System

Process Line

처리 장치 라인업

처리 장치 라인업 이미지
  • Bag Filter Scrubber System
  • Dry Scrubber System
  • Wet Scrubber System
  • Heat-Wet Scrubber System
  • Plasma Scrubber System
Overview

개요

반도체 공정에서 발생 되는 유해 가스는 물론 난분해성 가스인 PFCs 가스를 처리하는 장치이다. 열원 / 습식 / 화학흡착 / 플라즈마등 환경에 맞는 여러 방식으로 유해 가스를 안전하게 처리하는 장치

Dry Scrubber
HEAT-WET SCRUBBER
Wet Scrubber
PLASMA SCRUBBER
Heat-Wet Scrubber
WET SCRUBBER
Plasma Scrubber
DRY SCRUBBER

시스템 사양

제어방식 PLC & TOUCH (전자동시스템)
처리방식
  • WET SCRUBBER (습식 중화)
  • DRY SCRUBBER (화학 흡착)
  • HEAT WET SCRUBBER (열원&습식 하이브리드 적용)
  • PLASMA SCRUBBER (고온의 플라즈마&습식 하이브리드 적용)

시스템 장점

  • 쉬운 운전 및 편리한 유지보수 및 낮은 유지보수 비용
  • 자동화된 터치 및 PLC를 통한 안전한 작동 기능
  • 알림 기능 및 알람 이력관리 기능
  • 오 조작 방지용 Inter-Lock 기능
  • 다양한 폐가스의 높은 처리 효율
    (독성/가연성/부식성/위험 유해가스)

공정 환경에 맞는 맞춤형 특수 시스템 솔루션

가스 공급, 정제, 처리 장치 및 칠러 시스템까지, 독성 및 유해가스로부터 안전을 완벽하게 보장하는 최상의 커스텀 설비를 제안합니다. 지금 전문가와 상담하세요.

가스정제설비 시스템

Gas Purifier Equipment System

System List

정제 장치 라인업

가스정제설비 이미지
  • Gas Purifier System
  • N2 Purifier System
  • Ar Purifier System
  • H2 Purifier System
  • O2 Purifier System
  • He / Xe / Kr / Etc... Purifier System
Overview

개요

반도체공정에서 사용되는 가스는 초 고순도를 요구 됩니다. PURIFIER SYSTEM은 가스 내에 잔존하는 수분 / 금속 등 불순물을 정제하여 공정상 요구되는 고순도의 가스를 안전하게 공급하는 장치입니다.

Purifier System

시스템 사양

자동방식 자동공급(Auto Purge & Process System)
제어방식 PLC & TOUCH (전자동시스템)
정제Gas Ar / N2 / H2 / He / Xe / Kr
처리유량 1Nm³/h - 500Nm³/h 고객에 맞춘 다양한 유량도 대응 가능

시스템 장점

  • 쉬운 운전 및 유지 보수 (편리한 터치 기능)
  • 자동화된 Purge 및 Process 기능
  • 알림 기능 및 알람 이력관리 기능
  • 오 조작 방지용 Inter-Lock 기능
  • 자동 온도 제어에 의한 온도 조절(2중 안전장치)
  • 초고순도 가스 정제용 GETTER 5N 또는 7N 가능
  • 안전장치를 위한 자동 BY-PASS
  • 별도의 유틸리티가 필요 없는 간편한 공랭식 열교환기

칠러 시스템

Chiller System

System List

칠러 장치 라인업

칠러 시스템 이미지
  • Semiconductor Chiller System
  • Water Chiller System
  • Air Cooled Chiller System
Overview

개요

반도체공정 또는 산업에서 사용되는 Chiller System은 물이나 냉매 등의 열매체를 식혀 순환시킴으로써, 산업용 기계나 장비, 공간의 온도를 일정하게 유지하는 냉각 장치를 의미합니다. 단순히 시원한 바람을 내뿜는 에어컨과 달리, 액체의 온도를 정밀하게 제어하여 배관을 통해 필요한 곳에 냉기를 전달하는 것이 핵심입니다.

Chiller System

시스템 장점

  • 1대 또는 분리형 유니트로 구성된 제품으로 공간 확보 및 맞춤형 설치가 용이
  • 캐스터가 장착되어 장소 이동이 편리
  • 고성능 / 저소음의 콤프레샤 사양으로 탁월한 냉동 기능을 발휘
  • 온도제어가 가능하므로 사용 범위를 폭넓게 조절하며, 정밀도 유지로 제품의 불량률을 최소화
  • 누전 차단기 보호용 열회로를 장착하여 고장 발생을 사전에 예방 및 높은 안전성 확보
  • 연구실 / 기업연구소 / 반도체Fab 등 다양한 환경에 대응 가능한 모델

적용 분야

  • 반도체 공정 냉각
  • 산업용 장비 온도 유지
  • 연구소 및 Fab 환경 대응
  • 공간 온도 정밀 제어
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